世界でわずか2社のみの専門技術。次世代半導体で重要な微細化に貢献するＡＧＣ | Forbes JAPAN 公式サイト（フォーブス ジャパン）

2017年より次世代半導体の製造過程で使用されるEUV露光用フォトマスクブランクス（以下、EUVマスクブランクス）の生産を開始したＡＧＣは、現在の約2倍となる生産量を2024年までに実現すると発表した。しかしＡＧＣ株式会社 電子カンパニーの...