ナノレベルの汚染物質を分析し可視化 たゆまぬ技術開発で除去率99.9%を目指す

ナノレベルの汚染物質を分析し可視化 たゆまぬ技術開発で除去率99.9%を目指す

微細化・高度化が進む半導体工場。品質や歩留まりの観点でナノレベルの対策が求められている。重要度が高まっているのが化学汚染物質の管理だ。産業空調分野をリードする新菱冷熱工業は、化学汚染物質の可視化を軸に、提案、技術開発、施工を一貫して行い、除去率99.9%を目指す。

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